第208章 不会减少只会增多

双方的协议和约定，菊厂主要负责EdA工具开发和Ic设计。

    同步推进EdA工具的推广应用，构建生态体系。

    此外，操作系统的研发工作，菊厂也在秘密着手。

    菊厂将其计划命名为b计划，外界并不知晓。

    任总的态度一向开放。

    多次和常乐表示，b计划始终是b计划，非极端情形，更不会替代A计划。

    只有万不得已情形下，才会启动。

    乐达投资，主要负责制造端环节攻坚。

    以smee的光刻机研发为核心载体，连接协同上下游企业、研发机构同向发力、合力攻坚。

    其中包括双工件台、浸液系统、准分子激光光源、物镜、照明、曝光等核心零部件的研发，涉及数十家企业和科研机构。

    梁青松主导的华红半导体，则是应用载体，是为小白鼠的角色。

    主要为沪smee的设备研发提供试验场所，简单说就是适配。

    何融明反映情况看，路途还很遥远，过程还很艰辛、当然前方必然光明。

    当前smee的研发进度还停留在第三代扫描投影式光刻机阶段，即248nmKrf光刻机。

    最小工艺节点在180-130nm之间。

    且部分核心零部件需要进口。

    踩在EUVllc合作组织肩膀上的ASmL，处于狂飙突进状态。

    20多年前，也就是1986年，它们就已经推出第四代光刻机，即193nmArF光刻机。

    2007年，与tSmc合作开发出第一台浸没式光刻机，即193nmArFI光刻机。

    也就是常称的duv光刻机。

    2010年，成功实现32nm工艺节点，正向22nm工艺节点进军。

    第五代光刻机——EUV光刻机已经有理论基础，正在加速推进。

    横向比较，两者差距仍保持30年以上。

    但是，不能过于自怨自艾。

    要正视差距，肯定成绩。

    过去一年，何融明的主要精力集中在科研人才培养和培育上。

    乐达投资大手笔入局，大力度资金注入，过去一年，smee研发人员数量几何式倍增。

    上下游企业、研发机构研发进度和协调联动效率也在不断提高。

    smee作为资金中转地，采取目标导向和任务完成导向，指标完成度与资金拨付挂钩。

    只要完成既定目标，那么除项目本身巨额资金外，还有不菲的研发奖金。

    这些都是基础工作，需要慢慢来。

    梁青松入主华红半导体后，对外仍然是复旦教授和博士生导师。

    每天正常上下班，通过所带的研究生，对华红半导体进行技术管理，以度过竞业协议期。

    华红半导体，对外明面上，仍然以唐家栋为领航舵手。

    内部都知道，唐家栋就是一个菩萨，每天笑嘻嘻。

    熬过竞业协议期，他就会回归原本企业。

    毕竟tSmc对SmIc创始人的残酷打压、被迫离职的故事，殷鉴不远。

    华红半导体，这套以唐家栋为皮、以梁青松为核的套路打法，tSmc看在眼里，晓在心里，只是没有去追究。

    因为华红半导体在先进制程上，没有表现出半点野心。

    目前为止，他是成熟制程领域，快乐的大玩家。

    一方面，在先进制程方面没有丝毫突破迹象，没有相应的12英寸生产线；

    另一方面，制程工艺仍然停留在十年前的微米节点上，纳米节点还很遥远。

    称其为成熟工艺领域的快乐大玩家，理由很充分。

    因为，它占据了国内成熟市场50%以上的市场份额。

    这其中包括功率器件、嵌入式非易失性存储器、模拟与电源管理、逻辑与射频、独立式非易失性存储器……等等，利润率高达40%。

    然后，tSmc应该也不可能知道。

    它的研发费用率并不是对外公开的8%，而是41%。

    超过研发费用率第二名——晶合集成10个百分点，是SmIc的2倍，是tSmc的3倍。

    而且还在默默增长，只不过财务账面上看不到而已。

    相互沟通情况后，任总在加油鼓劲：

    “从历史来看，困难总是客观存在，但是困难始终是更大胜利的前奏。”

    “只要坚持、只要奋斗，胜利一定会来。”

    “而且，现在局面已经在不断改善，一直在前进，完成了无到有的跃进。”

    常乐说：“任总说的对，敢战方有前途、善战才会胜利。”

    他对何融明、梁青松说，母公司当初制定的计划不会变…”

    “在资金方面，不会减少、只会增多，不要有顾虑。”